光刻机是制造芯片的重要设备，不过目前国产光刻机的制造工艺还比较落后，上海微电子是国内唯一可以制造光刻机的产商，随着市场竞争的加剧，上海微电子也在不断加速技术研发，之前只能制造90nm的光刻机，如今，28nm的光刻机即将交付。
华为事件将成为国产半导体设备高速发展的重要催化剂。虽“国产替代”一直在进行中，但此次事件将成为整个国产半导体产业的警示标，将进一步加强国产替代的必要性和发展速度。
EUV光刻机目前只有台积电、三星电子、以及英特尔有，虽然中芯公司也是加工芯片，但原先预定的ASML的7纳米光刻机由于受到限制，导致荷兰迟迟不敢发货，所以除了台积电、三星和英特尔，没有谁可以给华为加工7纳米芯片。
据了解，ASML与飞利浦分家之后，就专注于研发光刻技术，采用先进的德国机械工艺以及世界级的蔡司镜头，再加上美国提供的光源使得ASML公司在光科技术方面飞速发展，几乎到达了无人能敌的境地，因此即使出现同样的厂商也会掩盖在ASML的光芒之下。
ASML是目前全球唯一使用极紫外光EUV的光刻机厂商。极紫外线光刻机使用的是波长13.5纳米的光，而深紫外线光刻机的波长达到193纳米。
作为国内唯一一家生产光刻机的上海微电子装备有限公司现在是任重而道远。
公开资料显示，上海微电子装备公司（SMEE）成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
总体来看，国产光刻机还有很长的路要走，不过随着大量研发费用和人才的投入，相信很快可以制造出性能一流的光刻机。