三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，...

三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子

D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体