三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的...

发布时间：2019-08-05 10:38:49

三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C．若生成0.2mol HNO3，则转移0.2mol电子

D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体