三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，...

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生如下反应：
3NF3＋5H2O→2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是
A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂

B．NF3是极性分子，在潮湿空气中泄漏会看到红棕色气体

C．若生成1 mol HNO3，则转移2NA个电子

D．每消耗0．2mol氧化剂，可收集到5．418L气体