(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：⑴NF3中氮元素的化合价为；⑵NF3的

发布时间：2019-08-05 10:26:46

试题难度：难度：中档试题类型：填空题试题内容： (8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF3中氮元素的化合价为       ；
⑵NF3的        大于HNO3（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         ；
⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为       ；