三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9

发布时间：2019-08-05 10:29:49

三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF 3 +5H 2 O=2NO+HNO 3 +9

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