三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF．下列有关该反应的说法正确的是（）A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂B．还

发布时间：2019-08-05 10:38:57

试题难度：难度：中档试题类型：多选题试题内容：三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF．下列有关该反应的说法正确的是（　　）A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2：1C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体