（16分）卤块的主要成分是MgCl2，此外还含有少量的Fe3＋、Fe2＋和Mn2＋等离子。以卤块为原料制取轻质氧化镁工艺以及相关数据如下：常温下生成氢氧化物沉淀的pH数据：物 质开始沉淀时的pH沉淀完

试题难度：难度：偏易 试题类型：填空题 试题内容：（16分）卤块的主要成分是MgCl2，此外还含有少量的Fe3＋、Fe2＋和Mn2＋等离子。以卤块为原料制取轻质氧化镁工艺以及相关数据如下：

常温下生成氢氧化物沉淀的pH数据：
物 质
开始沉淀时的pH
沉淀完全时的pH
Fe(OH)3
2.7
3.7
Fe(OH)2
7.6
9.6
Mn(OH)2
8.3
9.8
Mg(OH)2
9.6
11.1
回答下列问题：
（1）加入NaClO后产生少量红褐色沉淀。写出加入NaClO后发生的离子反应方程式：_____________________。
（2）为尽量除去杂质，用NaOH调节pH。当溶液pH为________  时，停止加入NaOH。
（3）流程图中操作X是_______________。
（4）加入Na2CO3后，加水煮沸的化学方程式为_________________________________。向除去Fe3＋、Fe2＋和Mn2＋等离子后的滤液中改加Na2CO3，而不继续加入NaOH，你认为可能的原因是___________________ __                                  。