如图所示，竖直放置的平行金属导轨EF和GH两部分导轨间距为2L，IJ和MN两部分导轨间距为L。整个装置处在水平向里的匀强磁场中，金属杆ab和cd的质量均为m，可在导轨

发布时间：2020-08-14 06:38:36

如图所示，竖直放置的平行金属导轨EF和GH两部分导轨间距为2L，IJ和MN两部分导轨间距为L。整个装置处在水平向里的匀强磁场中，金属杆ab和cd的质量均为m，可在导轨上无摩擦滑动，且与导轨接触良好。现对金属杆ab施加一个竖直向上的作用力F,使其匀速向上运动，此时cd处于静止状态，则力F的大小为A.mgB.2mgC.3mgD.4mg

网友回答

C解析试题分析： 对于cd，由于cd处于静止状态，所以有 ;  对于ab，由于ab匀速向上运动，所以有 ，综合两式，得：考点：安培力
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