在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（主要含有FeCl2和CuCl2）处理和资源回收的工业流程如图：

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（1）铜和氯化铁反应能生成氯化亚铁和氯化铜，反应的化学方程式为：2FeCl3+Cu=CuCl2++2FeCl2．故填：2FeCl3+Cu=CuCl2++2FeCl2．        铁和氯化铁反应能生成氯化亚铁，属于化合反应；铁和氯化铜反应能生成铜和氯化亚铁，属于置换反应，反应的化学方程式为：Fe+CuCl2=Cu+FeCl2．故填：Fe+CuCl2=Cu+FeCl2．（2）步骤②得到滤渣的成分是反应生成的铜和剩余的铁，步骤③的操作是过滤、洗涤、干燥等．故填：铁和铜；洗涤．   （3）Fe（OH）2与O2和H2O反应生成Fe（OH）3的化学方程式为：4Fe（OH）2+O2+2H2O=4Fe（OH）3，氢氧化铁是红褐色的固体．故填：红褐；4Fe（OH）2+O2+2H2O=4Fe（OH）3．